ความบริสุทธิ์สูง 99.8% Titanium Sputtering Target Vacuum Magnetic Control

ความบริสุทธิ์สูง 99.8% สูญญากาศควบคุมแม่เหล็ก Titanium Sputtering Target

ความบริสุทธิ์เป็นหนึ่งในตัวบ่งชี้ประสิทธิภาพหลักของเป้าหมายไทเทเนียม เนื่องจากความบริสุทธิ์ของเป้าหมายมีอิทธิพลอย่างมากต่อประสิทธิภาพของฟิล์ม

เป้าหมายไทเทเนียมของเรามีความบริสุทธิ์สูง 99.8%

เพื่อลดรูพรุนในชิ้นงานและปรับปรุงคุณสมบัติของฟิล์มที่สปัตเตอร์ มักจะต้องใช้ชิ้นงานที่มีความหนาแน่นสูงความหนาแน่นของชิ้นงานไม่เพียงส่งผลต่ออัตราการสปัตเตอร์เท่านั้น แต่ยังส่งผลต่อคุณสมบัติทางไฟฟ้าและทางแสงของฟิล์มด้วยยิ่งเป้าหมายมีความหนาแน่นสูง ประสิทธิภาพของฟิล์มก็จะยิ่งดีขึ้นเท่านั้นนอกจากนี้ โดยการเพิ่มความหนาแน่นและความแข็งแรงของเป้าหมาย เป้าหมายสามารถทนต่อความเครียดจากความร้อนในกระบวนการสปัตเตอร์ได้ดีขึ้นความหนาแน่นยังเป็นหนึ่งในตัวชี้วัดประสิทธิภาพหลักของวัสดุเป้าหมาย

รายละเอียดโดยย่อของแถบไทเทเนียมสำหรับการเคลือบสูญญากาศ

องค์ประกอบทางเคมีและสมบัติทางกล

ไทเทเนียมคุณภาพสูง Target 99.99% สำหรับการเคลือบสูญญากาศ

นอกจากนี้เรายังสามารถจัดหาเป้าหมายทังสเตน เป้าหมายโมลิบดีนัม เป้าหมายแทนทาลัม เป้าหมายไนโอเบียม เป้าหมายไทเทเนียม เป้าหมายนิกเกิล