ส่งข้อความ
บ้าน
สินค้า
เกี่ยวกับเรา
ทัวร์โรงงาน
ควบคุมคุณภาพ
ติดต่อเรา
ขออ้าง
ข่าว
Zhengzhou Sanhui Refractory Metal Co., Ltd.
บ้าน ผลิตภัณฑ์โมลิบดีนัมสปัตเตอร์เป้าหมาย

3N5 99.95% โมลิบดีนัมเป้าหมายการสปัตเตอร์สำหรับการเคลือบสูญญากาศ

จีน Zhengzhou Sanhui Refractory Metal Co., Ltd. รับรอง
จีน Zhengzhou Sanhui Refractory Metal Co., Ltd. รับรอง
เจิ้งโจว Sanhui เป็นพันธมิตรมืออาชีพที่มีคุณภาพดีเยี่ยมและบริการที่อบอุ่น

—— เจมส์

ขอขอบคุณสำหรับความร่วมมือระยะยาวของคุณด้วยการประกันคุณภาพและการจัดส่งที่ตรงเวลาและขอบคุณมากสำหรับการสนับสนุนอย่างดีตลอดปี 2020

—— บ๊อบ

สนทนาออนไลน์ตอนนี้ฉัน

3N5 99.95% โมลิบดีนัมเป้าหมายการสปัตเตอร์สำหรับการเคลือบสูญญากาศ

3N5 99.95% Molybdenum Sputtering Target For Vacuum Coating
3N5 99.95% Molybdenum Sputtering Target For Vacuum Coating
video play

ภาพใหญ่ :  3N5 99.95% โมลิบดีนัมเป้าหมายการสปัตเตอร์สำหรับการเคลือบสูญญากาศ

รายละเอียดสินค้า:
สถานที่กำเนิด: เหอหนานประเทศจีน
ชื่อแบรนด์: Sanhui
ได้รับการรับรอง: ISO 9001:2008
หมายเลขรุ่น: Mo1
การชำระเงิน:
จำนวนสั่งซื้อขั้นต่ำ: 10 ชิ้น
ราคา: USD 50-80 per pc
รายละเอียดการบรรจุ: กรณีไม้อัด
เวลาการส่งมอบ: 15-20 วัน
เงื่อนไขการชำระเงิน: D / A, D / P, T / T, Wester N Union
สามารถในการผลิต: 5000 ชิ้นต่อเดือน
รายละเอียดสินค้า
รูปร่าง: กลม สี่เหลี่ยม ระดับ: โมลิบดีนัมบริสุทธิ์หรือโลหะผสมโม
การรักษาพื้นผิว: ขัด/พื้น บริการ: การประมวลผลลึก
แอปพลิเคชัน: เคลือบสูญญากาศ, ไอออนสปัตเตอร์ ความอดทน: ความหนา +-0.1 มม.
เงื่อนไข: สูญญากาศอบอ่อนหรือไม่อบ เวลาจัดส่ง: 10-25 วันทำการ
แสงสูง:

เป้าหมายการสปัตเตอร์โมลิบดีนัม 99.95%

,

เป้าหมายการสปัตเตอร์โมลิบดีนัม 3N5

,

เป้าหมายการสปัตเตอร์โมลิบดีนัมสำหรับการเคลือบสูญญากาศ

3N5 99.95% โมลิบดีนัมเพลตเป้าหมายการสปัตเตอร์สำหรับการเคลือบสูญญากาศ

 

แนะนำโมลิบดีนัมสปัตเตอร์เป้าหมาย

ชื่อผลิตภัณฑ์ ความบริสุทธิ์ ความหนาแน่น พื้นผิว กำลังประมวลผล
โมเป้าหมาย 99.95% 10.22g/cm3 พื้น กลิ้ง

 

โมลิบดีนัมเป้าหมายสปัตเตอร์มีสองประเภท: โมลิบดีนัมระนาบเป้าหมายและเป้าหมายโรตารีโมลิบดีนัม

เป้าหมายการสปัตเตอร์โมลิบดีนัมเป็นวัสดุอุตสาหกรรมชนิดหนึ่งซึ่งใช้กันอย่างแพร่หลายในแก้วนำไฟฟ้า, STN / TN / TFT-LCD, แก้วแสง, การเคลือบไอออนและอุตสาหกรรมอื่น ๆเหมาะสำหรับระบบการเคลือบแบบระนาบและการเคลือบแบบหมุนทั้งหมด

 

เป้าหมายการสปัตเตอร์โมลิบดีนัมมีลักษณะของความบริสุทธิ์สูง ความหนาแน่นสูงและเกรนละเอียด เพื่อให้ประสิทธิภาพการสปัตเตอร์ ความหนาของฟิล์มสม่ำเสมอ และผิวกัดเรียบจะได้รับในการสปัตเตอร์

 

การประยุกต์ใช้โมลิบดีนัมสปัตเตอร์เป้าหมาย:

เป้าหมายการสปัตเตอร์โมลิบดีนัมสามารถใช้ได้ในอุตสาหกรรมเคลือบสูญญากาศ ไอออนสปัตเตอร์ อุตสาหกรรมจอแบน และอุตสาหกรรมเซลล์แสงอาทิตย์เป้าหมายการสปัตเตอร์โมลิบดีนัมสามารถใช้เป็นอิเล็กโทรดเซลล์แสงอาทิตย์แบบฟิล์มบาง วัสดุสายไฟ และวัสดุชั้นกั้นของเซมิคอนดักเตอร์

 

ดังนั้น โมลิบดีนัมจึงกลายเป็นหนึ่งในเป้าหมายการสปัตเตอร์ที่ต้องการสำหรับจอแบนโมลิบดีนัมยังสามารถปรับปรุงความสว่าง คอนทราสต์ สี และประสิทธิภาพอื่นๆ ของ LCD ได้อย่างมาก ตามที่ผู้เชี่ยวชาญกล่าวไว้ เป็นสิ่งสำคัญมากที่โมลิบดีนัมสามารถปรับปรุงประสิทธิภาพการทำงานอื่นๆ ของ LCD ได้อย่างมาก และยืดอายุการใช้งาน

 

สำหรับเป้าหมายโมลิบดีนัม TFT-LCD เราสามารถนำเสนอการเชื่อมแบบสุญญากาศสำหรับเป้าหมายโมลิบดีนัมขนาดใหญ่ด้วยแผ่นฐานทองแดง

 

ลักษณะและข้อกำหนดของเป้าหมายโมลิบดีนัม:

 

เป้าหมายการสปัตเตอร์โมลิบดีนัมมีลักษณะเด่นของโมลิบดีนัม เช่น จุดหลอมเหลวสูง ค่าการนำไฟฟ้าสูง พื้นผิวมันวาว ทนต่อการกัดกร่อนได้ดีขึ้น และการปกป้องสิ่งแวดล้อมที่โดดเด่น

ความบริสุทธิ์ (%)

ความหนาแน่น (g/cm3)

ข้อมูลจำเพาะ (มม.)

>=99.95

>=9.9

ขนาดเป้ากลม: (60-100) เส้นผ่านศูนย์กลาง *(42-55) ความกว้าง

ขนาดเป้าแผ่น: (8-16) หนา * (80-200) กว้าง * ยาว

ขนาดเป้าหมายของท่อ: (70-90.5) OD * (7-20) ความหนา * ความยาว

 

คอลเลกชั่นผลิตภัณฑ์

3N5 99.95% โมลิบดีนัมเป้าหมายการสปัตเตอร์สำหรับการเคลือบสูญญากาศ 0


 

 

รายละเอียดการติดต่อ
Zhengzhou Sanhui Refractory Metal Co., Ltd.

ผู้ติดต่อ: Lisa Ma

โทร: 86-15036139126

แฟกซ์: 86-371-66364729

ส่งคำถามของคุณกับเราโดยตรง (0 / 3000)

ผลิตภัณฑ์อื่น ๆ