Rm.2009, ชั้น 20, ยูนิต C, Yuhong Plaza, เลขที่
บ้าน ผลิตภัณฑ์โมลิบดีนัมสปัตเตอร์เป้าหมาย

10.2g / Cm3 โมลิบดีนัมบริสุทธิ์สี่เหลี่ยม / แผ่นกลมเป้าหมายการสปัตเตอร์สำหรับการเคลือบ

ได้รับการรับรอง
ประเทศจีน Zhengzhou Sanhui Refractory Metal Co., Ltd. รับรอง
ประเทศจีน Zhengzhou Sanhui Refractory Metal Co., Ltd. รับรอง
เจิ้งโจว Sanhui เป็นพันธมิตรมืออาชีพที่มีคุณภาพดีเยี่ยมและบริการที่อบอุ่น

—— เจมส์

ขอขอบคุณสำหรับความร่วมมือระยะยาวของคุณด้วยการประกันคุณภาพและการจัดส่งที่ตรงเวลาและขอบคุณมากสำหรับการสนับสนุนอย่างดีตลอดปี 2020

—— บ๊อบ

สนทนาออนไลน์ตอนนี้ฉัน

10.2g / Cm3 โมลิบดีนัมบริสุทธิ์สี่เหลี่ยม / แผ่นกลมเป้าหมายการสปัตเตอร์สำหรับการเคลือบ

10.2g/Cm3 Pure Molybdenum Rectangular/Round Plate Sputtering Target For Coating
10.2g/Cm3 Pure Molybdenum Rectangular/Round Plate Sputtering Target For Coating

ภาพใหญ่ :  10.2g / Cm3 โมลิบดีนัมบริสุทธิ์สี่เหลี่ยม / แผ่นกลมเป้าหมายการสปัตเตอร์สำหรับการเคลือบ

รายละเอียดสินค้า:

สถานที่กำเนิด: เหอหนานประเทศจีน
ชื่อแบรนด์: Sanhui
ได้รับการรับรอง: ISO 9001:2008
หมายเลขรุ่น: Mo1

การชำระเงิน:

จำนวนสั่งซื้อขั้นต่ำ: 10 ชิ้น
ราคา: USD 50-80 per pc
รายละเอียดการบรรจุ: กรณีไม้อัด
เวลาการส่งมอบ: 15-20 วัน
เงื่อนไขการชำระเงิน: D / A, D / P, T / T, Wester N Union
สามารถในการผลิต: 5000 ชิ้นต่อเดือน
รายละเอียดสินค้า
รูปร่าง: กลมสี่เหลี่ยม เกรด: โมลิบดีนัมบริสุทธิ์หรือโลหะผสม MO
การรักษาพื้นผิว: ขัด / พื้น บริการ: การประมวลผลลึก
ใบสมัคร: เคลือบสูญญากาศสปัตเตอร์ไอออน ความอดทน: ความหนา + -0.1 มม
เงื่อนไข: สูญญากาศอบหรือยกเลิกการอบ เวลาจัดส่ง: 10-25 วันทำการ
แสงสูง:

10.2g / Cm3 โมลิบดีนัมสปัตเตอร์เป้าหมาย

,

โมลิบดีนัมสปัตเตอร์เป้าหมายสำหรับการเคลือบ

,

เป้าหมายโมลิบดีนัม 10.2g / Cm3

10.2g / cm3 โมลิบดีนัมบริสุทธิ์เป้าหมายสปัตเตอร์สำหรับเคลือบ

 

แนะนำโมลิบดีนัมสปัตเตอร์เป้าหมาย

ชื่อผลิตภัณฑ์ ความบริสุทธิ์ ความหนาแน่น พื้นผิว กำลังดำเนินการ
โมเป้าหมาย 99.95% 10.22g/cm3 พื้น กลิ้ง

 

เป้าหมายการสปัตเตอร์โมลิบดีนัมมีลักษณะของความบริสุทธิ์สูง ความหนาแน่นสูงและเกรนละเอียด เพื่อให้ประสิทธิภาพการสปัตเตอร์ ความหนาของฟิล์มสม่ำเสมอ และผิวกัดเรียบจะได้รับในการสปัตเตอร์

 

โมลิบดีนัมเป้าหมายการสปัตเตอร์มีสองประเภท:โมลิบดีนัมเป้าหมายระนาบและเป้าหมายหมุนโมลิบดีนัม

โมลิบดีนัมเป้าหมายเป็นวัสดุอุตสาหกรรมชนิดหนึ่งซึ่งใช้กันอย่างแพร่หลายในแก้วนำไฟฟ้า, STN / TN / TFT-LCD, แก้วแสง, การเคลือบไอออนและอุตสาหกรรมอื่น ๆเหมาะสำหรับระบบการเคลือบแบบระนาบและการเคลือบแบบหมุนทั้งหมด

 

การประยุกต์ใช้โมลิบดีนัมเป้าหมายสปัตเตอร์:

เป้าหมายการสปัตเตอร์โมลิบดีนัมสามารถนำไปใช้ในอุตสาหกรรมเคลือบสูญญากาศ ไอออนสปัตเตอร์ อุตสาหกรรมจอแบน และอุตสาหกรรมไฟฟ้าโซลาร์เซลล์เป้าหมายการสปัตเตอร์โมลิบดีนัมสามารถใช้เป็นอิเล็กโทรดเซลล์แสงอาทิตย์แบบฟิล์มบาง วัสดุสายไฟ และวัสดุชั้นกั้นของเซมิคอนดักเตอร์

 

ดังนั้น โมลิบดีนัมจึงกลายเป็นหนึ่งในเป้าหมายการสปัตเตอร์ที่ต้องการสำหรับจอแบนโมลิบดีนัมยังสามารถปรับปรุงความสว่าง คอนทราสต์ สี และประสิทธิภาพอื่นๆ ของ LCD ได้อย่างมาก ตามความเห็นของผู้เชี่ยวชาญ เป็นสิ่งสำคัญมาก และยืดอายุการใช้งาน

 

สำหรับเป้าหมายโมลิบดีนัม TFT-LCD เราสามารถนำเสนอการเชื่อมแบบสุญญากาศสำหรับเป้าหมายโมลิบดีนัมขนาดใหญ่ด้วยแผ่นฐานทองแดง

 

ลักษณะและข้อกำหนดของเป้าหมายโมลิบดีนัม:

เป้าหมายการสปัตเตอร์โมลิบดีนัมมีลักษณะเด่นของโมลิบดีนัม เช่น จุดหลอมเหลวสูง ค่าการนำไฟฟ้าสูง พื้นผิวมันวาว ทนต่อการกัดกร่อนได้ดีขึ้น และการปกป้องสิ่งแวดล้อมที่โดดเด่นบน.

ความบริสุทธิ์ (%)

ความหนาแน่น (g/cm3)

ข้อมูลจำเพาะ (มม.)

>=99.95

>=9.9

ขนาดเป้ากลม: (60-100) เส้นผ่านศูนย์กลาง *(42-55) ความกว้าง

ขนาดเป้าแผ่น: (8-16) หนา * (80-200) กว้าง * ยาว

ขนาดเป้าหมายของท่อ: (70-90.5) OD * (7-20) ความหนา * ความยาว

 

คอลเลกชั่นผลิตภัณฑ์

10.2g / Cm3 โมลิบดีนัมบริสุทธิ์สี่เหลี่ยม / แผ่นกลมเป้าหมายการสปัตเตอร์สำหรับการเคลือบ 0


 

 

รายละเอียดการติดต่อ
Zhengzhou Sanhui Refractory Metal Co., Ltd.

ผู้ติดต่อ: Lisa Ma

โทร: 86-15036139126

ส่งคำถามของคุณกับเราโดยตรง (0 / 3000)

ผลิตภัณฑ์อื่น ๆ
ขอใบเสนอราคา

E-Mail | แผนผังเว็บไซต์

Privacy Policy ประเทศจีน ดี คุณภาพ ผลิตภัณฑ์โมลิบดีนัม ผู้ผลิต. © 2020 - 2021 machining-molybdenum.com. All Rights Reserved.