|
รายละเอียดสินค้า:
การชำระเงิน:
|
| ชื่อ: | เป้าหมายการสปัตเตอร์ไนโอเบียม | ขนาด: | กำหนดเอง |
|---|---|---|---|
| พื้นผิว: | สว่าง | แอปพลิเคชัน: | แมกนีตรอนสปัตเตอร์ |
| บรรจุุภัณฑ์: | กล่องไม้อัด | ขั้นต่ำ: | 5กก. |
| แสงสูง: | RO4210 Niobium Sputtering Target,RO4200 Niobium Sputtering Target,99.95% Niobium Sputtering Target |
||
สี่เหลี่ยมผืนผ้า RO4200 RO4210 ไนโอเบียมสปัตเตอร์เป้าหมายความบริสุทธิ์ 99.95%
วัสดุ:ไนโอเบียมบริสุทธิ์
ระดับ:RO4200.RO4210,R04251,R04261
มาตรฐาน:ASTM B392
ขั้นต่ำ:5KG
พื้นผิว:ขัดเงา Vannum อบรีดเย็น Bright
ลักษณะ:จุดหลอมเหลว : 2468℃ / จุดเดือด : 4744℃
ความหนาแน่น:8.6 ก./ซม.3
คุณสมบัติของสินค้า:ทนต่อการกัดกร่อนได้ดีเยี่ยม ทนต่อความร้อนได้ดี ไม่เป็นแม่เหล็กและปลอดสารพิษ
การใช้งานของเป้าหมายไนโอเบียม:
เป้าหมายของโลหะผสมไนโอเบียมและไนโอเบียมส่วนใหญ่จะใช้ในวัสดุวิศวกรรมพื้นผิว เช่น การต่อเรือ อุตสาหกรรมเคมี จอภาพคริสตัลเหลว (LCD) อุตสาหกรรมเคลือบทนความร้อน ทนต่อการกัดกร่อน และการนำไฟฟ้าสูง อุตสาหกรรมพลังงานแสงอาทิตย์ฟิล์มบาง อุตสาหกรรมแก้วรังสีต่ำ , อุตสาหกรรมจอแบน , อุตสาหกรรมการเคลือบด้วยแสง , อุตสาหกรรมเครื่องมือและการเคลือบตกแต่ง
ขนาดของเป้าหมายไนโอเบียม:
เป้าเหลี่ยม: ยาว (200 มม. ~ 2500 มม.) x กว้าง (10 มม. ~ 1000 มม.) x หนา (1 มม. ~ 25 มม.)
เป้าทรงกลม: เส้นผ่านศูนย์กลาง Φ (25 มม. ~ 800 มม.) x ความหนา (3 มม. ~ 28 มม.)
ผู้ติดต่อ: Nikki Liu
โทร: 86-13783553056
แฟกซ์: 86-371-66364729
